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PECVD系統配置:1.1200度開啟式雙溫區真空管式爐2.等離子射頻電源3.多路質量流量控制系統4.真空系統(可選配中真空或高真空)
查看詳細介紹PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。
查看詳細介紹PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統PECVD-12IH-4Z/G
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